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国产膜厚仪替代Filmetrics核心原理

来源:仪器百科2025/11/5 8:40:0320
导读:
   国产膜厚仪替代Filmetrics在膜厚测量的基础上迭加自动测样载台,能够对设置好的点位进行自动测量,并进一步生成2D和3D的资料分布图,适用于晶圆膜厚测量。
  一、国产膜厚仪替代Filmetrics核心原理
  垂直入射的高稳定宽波段光入射到样品表面,在各膜层之间产生光学干涉现象,反射光经过光谱分析以及回归算法可计算出薄膜各层的厚度。适合测量纳米级至微米级的透明或半透明膜层的厚度、反射率、折射率等参数。
  非接触桌面式自动 薄膜膜厚测厚仪核心功能
  二、特色
  1、测量范围:可测量1纳米到250微米的薄膜厚度、折射率、反射率。
  2、非接触测量:可测量硬质材料、软质材料或表面易受损的样品。
  3、高精度,高稳定性:亚纳米级厚度测量精度,静态稳定性可达0.02纳米。
  4、多层膜测量能力:可以测量多层复合薄膜各层的厚度。
  5、智能化算法:核心IP算法,一键式测量大跨度膜厚,极大简化测量流程。
  6、特色软件功能:自研PolarX分析软件,包含配方预测验证、特殊材料捏合等功能。
  三、特别说明
  1、样品自动测量,平台尺寸100mm~450mm可选
  2、软件根据需求自动生成测量点位分布
  3、2D和3D测绘效果,包含厚度/折射率/反射率等信息
  4、可测量薄膜应力和表面弯曲(Stress/Bow)
 

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