多电子枪蒸发镀膜系统|德仪天力科技
来源：工业之家2026/9/30 15:54:4915
导读:
DE600CL 多电子枪蒸发镀膜系统配置三（四或六）个电子束蒸发源，可在基片共蒸发金属、半导体或介质材料。
1、核心配置
- 电子枪：三个（或四个）（或六个）
- 镀膜环境：高真空或超高真空
- 样品处理：可高温加热、可低温冷却
- 镀膜性能：优质薄膜质量，具备良好的膜厚均匀性和重复性；高精度镀膜速率和膜厚控制
2、可选功能
- 送样功能：可选LOAD LOCK，全自动送样
- 清洗功能：可选离子束清洗或辅助沉积、可选RF等离子体清洗
3、控制方式
- PLC+PC全自动控制
4、主要技术指标
- 极限真空度：3E-8Torr
- 基片尺寸：可选：2英寸、4英寸、6英寸、8英寸、12英寸
- 膜厚均匀性：优于+/-3%
- 蒸发速率分辨率：0.01 A/s
- 膜厚分辨率：0.1A
4、应用范围
- 可沉积材料：金属、半导体、介质材料
- 镀膜类型：可用于沉积单层、多层膜；可共蒸合金膜；可进行LIFT-OFF工艺蒸镀
- 其他应用：低维材料制备
- 适用场景：研发和中试或量产
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